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磁共振電阻抗成像技術(shù)

Technology and Development of the Magnetic Resonance Electrical Impedance Tomography

作者: 何永波;宋濤;王慧賢;楊旭 
單位:中國科學(xué)院電工研究所電磁生物工程部,北京,100080%中國科學(xué)院研究生院,北京,100039
關(guān)鍵詞: 磁共振電阻抗成像%磁共振電流密度成像%分辨率%算法 
分類號(hào):
出版年·卷·期(頁碼):2006·25·1(99-102)
摘要:

本文介紹了一種把磁共振成像(magnetic resonance imaging,MRI)技術(shù)和電阻抗成像(electrical impedance tomography,EIT)技術(shù)融合的新型成像技術(shù)--磁共振電阻抗成像技術(shù).闡述了二者結(jié)合的關(guān)鍵點(diǎn):磁共振電流密度成像技術(shù).分析了硬件系統(tǒng)構(gòu)建的特點(diǎn),著重回顧了當(dāng)前研究概況并介紹了幾種主要模型和算法,指出了各自特點(diǎn).最后對(duì)該技術(shù)的主要問題和發(fā)展方向進(jìn)行了探討.

參考文獻(xiàn):

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